PVD真空鍍膜設備鍍膜技術是在真空腔體中將鈦、金、銀、石墨、水晶等金屬或非金屬、化合物、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術，在基材上沉積一層薄薄膜層表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比，pvd鍍膜機有很多優點：如對環境無污染，是綠色環保工藝；對操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻，顏色靚麗，改變其功能性能等。

 PVD技術中經常使用的方法主要有：蒸發鍍膜（包括電弧蒸發、電子槍蒸發、電阻絲蒸發等技術）、濺射鍍膜（包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術），這些方法統稱物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition），簡稱為PVD。行業內通常所說的“IP”（ion plating）離子鍍膜，是因為在PVD技術中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強調離子的作用，而統稱為離子鍍膜。

      PVD真空鍍膜設備又分很多種類，常見的有裝飾真空鍍膜設備、功能性真空鍍膜設備、汽車零部件真空鍍膜設備、連續式真空鍍膜設備、卷繞真空鍍膜設備，設備所投入使用領域不一樣，所都鍍制的膜層效果不一樣，選擇的真空鍍膜設備類型不一樣。目前市場裝飾真空鍍膜設備占比高，但是也是市場Z常規的鍍膜設備。近幾年，隨著汽車新能源的發展，市場上目前相對較熱門的設備，數復合集流體復合銅箔鍍膜設備和雙極板真空鍍膜設備，技術工藝要求較高，較嚴格，成本也相對來說較高。