渦旋水環真空泵的研究始于20世紀80年代末期。1988年，日本東京大學的MorishitaE研制了抽速為200L/min的立式自轉型油潤滑渦旋水環真空泵，與公轉型渦旋真空泵相比，該泵的徑向間隙具有易于密封和控制的優點。而渦旋泵與旋片泵相比，具有更高的容積效率，泵內的振動和噪聲水平都有所降低。此外，由于其結構更緊湊，整機重量和體積分別減少了12%和40%。MorishitaE的研究表明了渦旋真空泵的，并對如何消除余隙容積、控制間隙等提出了有效方法。隨著渦旋真空泵在半導體行業中應用的不斷擴大，人們開始致力于干式渦旋真空泵的研究。干式渦旋真空泵與油潤滑渦旋真空泵的區別在于泵腔內不含任何的油類和液體。因此解決泵內的密封和冷卻問題，是干式渦旋真空泵研究的關鍵。1990年，KushiroT研制了抽速為600L/min的臥式干式渦旋真空泵。

     該泵可以達到的壓力為5×10－3T。它采用水冷的方式解決泵內各部件的潤滑和冷卻等問題。KushiroT的研究表明了干式渦旋真空泵的可行性，還有效地解決了動靜盤熱力變形造成的相互接觸及離心力造成的動盤振動等問題。雖然采用水冷方式可以有效地解決干式渦旋真空泵的冷卻問題，但冷卻水回路的設置使其結構更加復雜。盤采用雙側渦圈結構，主軸上裝有兩個冷卻風扇，分別位于兩個靜盤的端部，主軸轉動時帶動風扇一起轉動，達到對渦盤的冷卻效果。同時它采用了半封閉式結構，解決了電動機的冷卻問題。2001年，我國東北大學與中國科學院沈陽科學儀器研制中心聯合研制了該類型的干式渦旋真空泵，并于2003年初通過了國家真空設備質量檢測中心的鑒定。此外，BOC公司也推出了一種采用風冷方式進行冷卻的干式渦旋真空泵，該泵采用全封閉式結構，渦盤為單側渦圈結構，冷卻風扇安裝在靜盤的端部。