真空鍍膜機需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng)）形成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。

使用步驟：
電控柜操作
1. 開(kāi)水泵、氣源。
2. 開(kāi)總電源。
3. 開(kāi)維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開(kāi)機械泵、預抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、并啟動(dòng)，真空計開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀(guān)察渦輪分子泵讀數到達250以后，關(guān)預抽，開(kāi)前級泵和高真空閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭，觀(guān)察真空度。真空到達2×10-3以后才能打開(kāi)電子槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān)，延時(shí)、電源及保護燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護燈滅，若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護燈會(huì )常亮。
3. 開(kāi)高壓，高壓會(huì )達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動(dòng)。