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      電子束真空鍍膜設備工作原理

      發布日期:2022-05-23

      電子束真空鍍膜設備是根據電子束蒸發的物理氣相堆積(PVD)技術,它在真空下使用電子束直接加熱蒸發材料(通常是顆粒),并將蒸發的材料輸送到基板上構成一個薄膜。電子束蒸鍍能夠鍍出高純度、高精度的薄膜。

      電子束蒸發鍍膜機作為工藝實驗儀器通常被用于材料科學領域,是一種普適鍍膜機,用于鍍制各種單層膜、多層膜??慑兏鞣N硬質膜、金屬膜。主要用于制備納米器材、有機光電器材的金屬電極,以及制備用于成長納米材料的催化劑薄膜層。

      電子束真空鍍膜設備的使用范圍

      電子束蒸發鍍膜機因其高堆積速率和高材料使用功率而被廣泛使用于各種使用中。例如,高性能航空航天和汽車行業,對材料的耐高溫和耐磨性有很高的要求;耐用的東西硬涂層;和化學屏障和涂層,以保護腐蝕環境中的外表。電子束蒸發也用于光學薄膜,包含激光光學、太陽能電池板、玻璃和建筑玻璃,以賦予它們所需的導電、反射和透射特性。

      電子束真空鍍膜設備的優點和缺點

      電子束蒸技術發能夠蒸發高熔點材料,比一般電阻加熱蒸發技術功率更高。電子束蒸發鍍膜機可廣泛用于高純薄膜和導電玻璃等光學鍍膜。它還具有用于航空航天工業的耐磨和熱障涂層、切削和東西工業的硬涂層的潛在工業使用。但是,電子束蒸發鍍膜機不能用于涂覆雜亂幾許形狀的內外表。此外,電子槍中的燈絲退化或許導致蒸發速率不均勻。

      真空鍍膜設備

      電子束蒸發鍍膜機的工作流程

      電子束蒸發鍍膜機是根據鎢絲的蒸發。大約5到10 kV的電流經過鎢絲(坐落堆積區域外以防止污染)并將其加熱到產生電子熱離子發射的點。使用永磁體或電磁體將電子聚焦并導向蒸發材料(放置在坩堝中)。在電子束碰擊蒸發丸外表的進程中,其動能轉化為熱量,釋放出高能量(每平方英寸數百萬瓦以上)。因此,容納蒸發材料的爐床有必要水冷以防止熔化。

      電子束蒸發鍍膜機和熱蒸發鍍膜機的區別

      電子束蒸發鍍膜機和熱蒸發鍍膜機的區別在于:電子束蒸發鍍膜機是用一束電子炮擊物體,產生高能量進行蒸發,熱蒸發經過加熱完結這一進程。與熱蒸發鍍膜機相比,電子束蒸發鍍膜機提供了高能量;但將薄膜的厚度控制在5nm量級將是困難的。在這種情況下,帶有厚度監控器的良好熱蒸發器將更適宜。

      與熱蒸發鍍膜機相比,電子束蒸發鍍膜機的優點

      電子束蒸發鍍膜機能夠將材料加熱到比熱蒸發鍍膜機更高的溫度。這允許高溫材料和難熔金屬(例如鎢、鉭或石墨)的十分高的堆積速率和蒸發。

      電子束蒸發鍍膜機能夠堆積更薄、純度更高的薄膜。坩堝的水冷將電子束加熱嚴格約束在僅由源材料占有的區域,從而消除了相鄰組件的任何不必要的污染。

      電子束蒸發鍍膜機的蒸發源有各種尺寸和配置,包括單腔或多腔。


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